発明特許は、製品から逆推測可能な回路アーキテクチャ、製造プロセスの改良に適しています。公開を代償に 20 年の排他権を取得し、最も主要な対抗手段となります。配置設計専有権は、具体的なマスクパターンの三次元配置を保護し、取得コストが低く実体審査がありません。ただし保護期間は 10 年と短く、リバースエンジニアリングに関する法定抗弁が存在します。営業秘密は、製品からは容易に読み取れないプロセスパラメータ、歩留まり改善ノウハウ、テストベンチ、設計ツールチェーンに適しています。期間の制限がない反面、秘密保持措置を継続的に実施する義務があります。タイミングに関する一般的な原則は次の通りです。流片前に特許出願および配置設計登録の手配を完了させます。流片・量産開始後 2 年の配置設計出願期限に注意します。外部委託（OEM、テスト・パッケージ）を行う前に秘密保持契約および権利帰属条項を整備します。
